特种气体是光电子、微电子等行业的重要材料基础，广泛应用于集成电路、显示器件、太阳能薄膜、半导体材料及发光器件的制造过程中。这类气体的纯度与洁净度，直接影响器件的性能、成品率与工艺稳定性，是支撑电子制造产业的重要技术材料之一。
随着半导体照明行业的不断发展，特种气体的需求量持续提升，尤其是在化合物半导体外延生长环节，对高纯源气和工艺气体依赖度更高。当前，LED、化合物半导体等行业快速增长，使得对高纯氨气、硅烷、磷烷、砷烷等关键气体的需求显著扩大。由于这类气体品种多、纯度要求高、生产与储运技术门槛较高，国际供应商占据主要份额，而国内供应正在逐步提升。
LED 行业常用特种气体分类
LED 制程用气种类繁多，要求高纯度、低杂质、低颗粒度，主要包括：
（1）硅族气体（Si 系）
用于外延生长及薄膜沉积，例如：
硅烷（SiH₄）
二氯二氢硅（SiH₂Cl₂）
乙硅烷（Si₂H₆）
（2）掺杂气体（B/P/As 系）
用于调整半导体材料的导电性能，例如：
磷烷（PH₃）
砷烷（AsH₃）
三氯化硼（BCl₃）
三氟化硼（BF₃）
（3）蚀刻/清洗气体
用于刻蚀衬底、清洗腔体，例如：
三氟化氮（NF₃）
氯气（Cl₂）
溴化氢（HBr）
四氟化碳（CF₄）
（4）反应及载气
用于外延反应或作为稀释/载运气体，例如：
氨气（NH₃）
氮气（N₂）
氢气（H₂）
氧化亚氮（N₂O）
二氧化碳（CO₂）
（5）金属有机源（MOCVD 用）
用于 GaN 等化合物外延生长，例如：
三甲基镓（TMGa）
三甲基铝（TMAl）
三甲基铟（TMIn）
二乙基锌（DEZn）
LED 外延（MOCVD）对特种气体的关键需求
MOCVD 是当前 LED 外延片制造的主流技术，对气体纯度、稳定性和洁净度要求极高：
外延关键气体：高纯氨气、高纯砷烷、高纯磷烷、硅烷等
必需载气：氩气、氢气、氮气
清洗刻蚀：氯气、氯化氢
金属有机源：TMGa、TMIn、TMAl 等
混合气体如 SiH₄/N₂、SiH₄/H₂ 等，用量虽小，但杂质要求极严苛，露点需低至 -95°C 以下，以确保外延片生长质量。
LED 特种气体的市场趋势
随着化合物半导体和 LED 技术的成熟，对超纯特种气体的要求不断提高，主要趋势包括：
更高纯度等级的气体（如氨气从 5N 发展到 7N）
更严格的杂质控制（ppb/ppt 级）
更先进的气体净化、检测与过滤技术
更大规格的气瓶与集中供气系统
混合气体的更高稳定性与一致性供应
此外，LED 产业规模扩张带动了对晶圆、气体、有机金属源等原材料的快速增长。
全球与国内供应情况
国际几家大型气体公司长期在电子气市场占有较高份额。国内特种气体企业正在逐步研发并投入相关产品，部分关键气体已能够满足 LED 外延工厂的使用需求，但部分品类仍需进一步技术突破以实现更大规模供应。
LED 领域特种气体需求量
随着 LED 应用拓展和化合物半导体设备数量增长，国内市场对高纯氨、高纯硅烷、高纯砷烷等关键气体的需求持续扩大。国际市场中，美国、日本、韩国、中国台湾等地区仍是高纯气体需求较为集中的区域。
